| CMD2000/4實驗室濕法粉碎機 |
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實驗室濕法粉碎機是濕磨機濕磨是干磨的一種安全而#效的替代方案，基于轉子-定子原理。IKN濕磨機的輸入剪切能大，可實現10 µm及以下粒度。IKN濕磨機能夠處理寬粘度范圍的產品。鑒于其處理能力，IKN濕磨機被用于諸多應用，如織物涂料、漆、染紙顏料和潤滑脂濕磨。 |
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| CMD200O/4實驗室研磨分散機 |
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實驗室研磨分散機是由電動機通過皮帶傳動帶動轉齒（或稱為轉子）與相配的定齒（或稱為定子）作相對的gao速旋轉，被加工物料通過本身的重量或外部壓力（可由泵產生）加壓產生向下的螺旋沖擊力，透過膠體磨定、轉齒之間的間隙（間隙可調）時受到強大的剪切力、摩擦力、高頻振動等物理作用，使物料被有xiao地乳化、分散和粉碎，da到物料chao細粉碎及乳化的效果。
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| PP2000/4實驗室均質機 |
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LP2000/4和PP2000/4中試型實驗室均質機專為實驗研發，模擬工業管線式生產流程而設計，給工業化提供可kao的數據論證。LP2000/4和PP2000/4中試型高剪切均質機與大型工業管線式量產機型配置基本相同，各種工作頭的種類及相應線速度亦相同，中試過程中的工藝參數在工業化后之后不用重新調整，從而將機器型號升級到工業化的過程中的風險降到#di |
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| LP2000/4實驗室分散機 |
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LP2000/4和PP2000/4中試型實驗室分散機專為實驗研發，模擬工業管線式生產流程而設計，給工業化提供ke kao的數據論證。LP2000/4和PP2000/4中試型分散機與大型工業管線式量產機型配置基本相同，各種工作頭的種類及相應線速度亦相同，中試過程中的工藝參數在工業化后之后不用重新調整，從而將機器型號升級到工業化的過程中的風險降到#di |
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| CMD2000/4實驗室研磨機 |
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CMD2000/4實驗室研磨機是由膠體磨,分散機組合而成的高科技產品。第一級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。第er級由轉定子組成。 |
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| CM2000/4（PP2000/4）中試型膠體磨 |
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中試型膠體磨是由電動機通過皮帶傳動帶動轉齒（或稱為轉子）與相配的定齒（或稱為定子）作相對的gao速旋轉，被加工物料通過本身的重量或外部壓力（可由泵產生）加壓產生 向下的螺旋沖擊力，透過中試型膠體磨定、轉齒之間的間隙（間隙可調）時受到強大的剪切力、摩擦力、高頻振動等物理作用，使物料被有xiao地乳化、分散和粉碎，da到物料超細粉碎及乳化的效果。 |
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